【每日谈】先进制程国产化最陡峭的时刻将至,一文梳理光刻机最核心部件!
来源:证券时报·e公司 2025-07-08 20:20
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【本文来自持牌证券机构,不代表平台观点,请独立判断和决策】

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光刻机是芯片制程核心设备,对于光刻机核心部件,加工流程复杂、设备种类较多,是产业重要壁垒之一,目前我国光刻技术与全球先进水平存在较大差距,大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目,光刻机国产供应链有望优先受益。

1)光刻机是芯片制程核心设备

光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平,光刻机的关键指标是分辨率、焦深、套刻精度和产率,其中,分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光,增加焦深能够促使光刻机容纳各种工艺误差,套刻精度影响光刻工艺良率和多重曝光水平,产率是光刻机实现产业化的必要条件。

2)核心部件是光刻产业关键壁垒

对于投影光学光刻机,主要部件包括光源、照明、物镜、工件台、调焦调平、对准等,EUV光刻机特征显著,体现在材料选择、多层反射膜结构、反射式投影系统、大功率光源以及磁悬浮工件台等方面。

对于光刻机核心部件,加工流程复杂、设备种类较多,是产业重要壁垒之一。

据测算,2025E全球光刻机市场规模为293.7亿美元,照明+物镜、光源、工件台、其他部件市场规模为47.8、28.6、21.5、45.2亿美元;

2025E全球EUV光刻机市场规模为96亿美元,EUV光刻机的照明+物镜、光源、工件台、其他部件市场规模为15.5、12.6、7.0、11.5亿美元。

3)技术变革+产业协作是ASML的成功要领

开放与合作是光刻机发展的主旋律,ASML的供应商遍布全球。

Zeiss:百年光学巨头,ASML重要合作伙伴;

Cymer:主导全球光刻机光源市场,已被ASML收购;

Gigaphoton:激光器光源领先供应商,产品种类丰富;

TRUMPF:EUV激光器实力强大,Cymer重要合作伙伴;

莱宝:真空镀膜设备品类丰富,下游涉及EUV镜片镀膜。

4)先进制程设备国产化提速

目前我国光刻技术与全球先进水平存在较大差距,大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目,光刻机国产供应链有望优先受益,关注光源、照明、物镜、工件台等核心部件及加工设备标的。

①光刻机核心部件:福光股份、福晶科技、茂莱光学、波长光电、美埃科技、富创精密、永新光学、腾景科技;

②光刻机部件加工设备:汇成真空;

③光刻机整机:芯碁微装。

研报来源:国海证券,杜先康,S0350523080003,光刻机行业深度报告(一):核心部件篇,曙光已现。2025年7月6日

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责任编辑: 赖少华
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