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光刻机是芯片制程核心设备，对于光刻机核心部件，加工流程复杂、设备种类较多，是产业重要壁垒之一，目前我国光刻技术与全球先进水平存在较大差距，大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目，光刻机国产供应链有望优先受益。

1）光刻机是芯片制程核心设备

光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平，光刻机的关键指标是分辨率、焦深、套刻精度和产率，其中，分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光，增加焦深能够促使光刻机容纳各种工艺误差，套刻精度影响光刻工艺良率和多重曝光水平，产率是光刻机实现产业化的必要条件。

2）核心部件是光刻产业关键壁垒

对于投影光学光刻机，主要部件包括光源、照明、物镜、工件台、调焦调平、对准等，EUV光刻机特征显著，体现在材料选择、多层反射膜结构、反射式投影系统、大功率光源以及磁悬浮工件台等方面。

对于光刻机核心部件，加工流程复杂、设备种类较多，是产业重要壁垒之一。

据测算，2025E全球光刻机市场规模为293.7亿美元，照明+物镜、光源、工件台、其他部件市场规模为47.8、28.6、21.5、45.2亿美元；

2025E全球EUV光刻机市场规模为96亿美元，EUV光刻机的照明+物镜、光源、工件台、其他部件市场规模为15.5、12.6、7.0、11.5亿美元。

3）技术变革+产业协作是ASML的成功要领

开放与合作是光刻机发展的主旋律，ASML的供应商遍布全球。

Zeiss：百年光学巨头，ASML重要合作伙伴；

Cymer：主导全球光刻机光源市场，已被ASML收购；

Gigaphoton：激光器光源领先供应商，产品种类丰富；

TRUMPF：EUV激光器实力强大，Cymer重要合作伙伴；

莱宝：真空镀膜设备品类丰富，下游涉及EUV镜片镀膜。

4）先进制程设备国产化提速

目前我国光刻技术与全球先进水平存在较大差距，大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目，光刻机国产供应链有望优先受益，关注光源、照明、物镜、工件台等核心部件及加工设备标的。

①光刻机核心部件：福光股份、福晶科技、茂莱光学、波长光电、美埃科技、富创精密、永新光学、腾景科技；

②光刻机部件加工设备：汇成真空；

③光刻机整机：芯碁微装。

研报来源：国海证券，杜先康，S0350523080003，光刻机行业深度报告（一）：核心部件篇，曙光已现。2025年7月6日

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