公司湿法清洗设备聚焦单片机台(SingleWafer)在28nm以下先进制程的国产替代。目前14nm/7nm工艺节点设备正处于客户端关键验证期,预计2026年进入放量采购阶段,有望实现从“0到1”的验证通过向“1到N”的重复订单跨越。